化学镀技术的核心问题是镀液的组成和性能
化学镀技术的核心问题是镀液的组成和性能。化学镀液的最基本组成是主盐、还原剂和配合剂。主盐在镀液中起着提供被还原的金属离子的作用，一般要求在水溶液中有一定的溶解度和稳定性(即在一定的pH值范围内不产生水解或分解)，同时主盐的阴离子对自催化过程应无明显的副作用。采用盐类的阴离子有硫酸根、乙酸根、氛化物等，特殊情况下也有用硝酸根的。还原剂是自催化镀液的关键组分，常用的还原剂包括次磷酸盐、硼烷衍生物、联氨系列、甲醛等。还原剂在体系中的还原能力，以及还原剂的化学稳定性和还原剂的氧化产物对镀层及沉积反应的影响，一直是研究者关注研究和分析的对象。还原剂的还原能力一般可根据其还原电势判别，还原电势越负，其还原能力越强。配合剂在镀液中的主要作用为:(1)形成金属配合离子，使平衡电势改变，有利于金属沉积;(2)降低金属离子在溶液中的浓度，防止产生沉淀;(3)掩蔽杂质，提高镀液稳定性。因此，对配合剂的要求有:形成的金属配合离子在溶液中有一定的溶解度;配合离子具有一定的稳定性，不分解、不水解;对自催化沉积过程无有害的影响。 随着高科技和国防工业的发展，对材料的要求不断提高。制备出满足高科技和国防工业所需性能的镀层和新材料，研究新的镀液组成、性能和工艺条件并降低制备成本，仍是化学镀技术方兴未艾的研究课题。本文是由“北京北京航锐通技术发展有限公司”为您提供,转载请注明出处！
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